KRI 考夫曼霍爾離子源光學蒸鍍鍍膜機應用
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KRI 考夫曼霍爾離子源光學蒸鍍鍍膜機應用

伯東公司 KRI 考夫曼霍爾離子源光學蒸鍍鍍膜機應用

常見蒸鍍機臺與對應 KRI 霍爾離子源型號:

蒸鍍機臺尺寸

KRI 離子源

~1100mm

eH1010

1100~1400mm

eH1010, eH1020

1400~1900mm

eH1020, eH3000


離子源


KRI 考夫曼霍爾離子源 controller 自動化控制及聯機自動化設計,提供使用者在操作上更是便利。

離子源


KRI 考夫曼霍爾離子源 Gun body 模塊化之設計、提供使用者在于基本保養中能夠降低成本及便利性。

離子源


伯東公司客戶 1400 mm 蒸鍍鍍膜機安裝 KRI考夫曼霍爾離子源 EH1020 F,應用于塑料光學鍍膜

離子源
離子源

離子源


KRI 考夫曼霍爾離子源 EH1020 主要參數:

Filament Controller

Discharge controller

Gas controller

17.2A/ 22V

150V/ 4.85A

Ar/ 32sccm

離子源


利用 KRI 考夫曼霍爾離子源輔助鍍膜及無離子源輔助鍍膜對鍍膜質量之比較:

 

KRI EH1020 輔助鍍膜

無 Ion Source 輔助鍍膜

鹽水煮沸脫膜測試

破壞性百格脫膜測試

光學折射設率

膜層致密性

膜層光學吸收率

制程腔體加熱溫度

生產成本

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 






KRI 考夫曼霍爾離子源系列主要型號包含:

 

離子源 eH200

 離子源 eH400

離子源 eH1010

離子源 eH1020

離子源 eH3000

Cathode

Filament or Hollow cathode

Filament or Hollow cathode

Filament or Hollow cathode

Filament or Hollow cathode

Hollow cathode

Water Cooled Anode

no

no

no

yes

no

Discharge Currentmax

2 A

3.5 (7) A

10 (7) A

10 (20) A

20 (10) A

Discharge  Voltagemax

300 V

300 (150) V

300 (150 ) V

300 (150) V

250 (300) V

Discharge  Voltagemin

40* V

40* V

40* V

40* V

40* V

Divergence (hmhw)

45°

45°

45°

45°

45°

Height (nominal)

2.0”

3.0”

4.0”

4.0”

6.0”

Diameter (nominal)

2.5”

3.7”

5.7”

5.7”

9.7”

 

伯東公司主要經營產品德國 Pfeiffer渦輪分子泵, 干式真空泵, 羅茨真空泵, 旋片真空泵; 應用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規管);氦質譜檢漏儀質譜分析儀;真空系統以及 Cryopump 冷凝泵/低溫泵, HVA 真空閥門, Polycold 冷凍機美國KRI Kaufman 考夫曼離子源(離子槍)

 

若您需要進一步的了解詳細信息,請與我們聯系:

TEL: 86 (021) 50463511轉106

FAX: 86 (021) 50461490

Email: ec@hakuto-vacuum.cn

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